淺析實驗室等離子清洗機的清洗原理

　　實驗室等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體柔柔沖洗被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
 

　　實驗室等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。
 

　　實驗室等離子清洗機的清洗原理是通過化學或物理作用對工件表面進行處理，實現分子水平的污染物去除，從而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能為有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝，根據選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。
 

　　1、化學清洗:表面作用以化學反應為主的等離子體清洗，氧等離子體通過化學反應可使非揮發性有機物變成易揮發的H2O和CO2。氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。
 

　　2、物理清洗：表面作用以物理反應為主的等離子體清洗，在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產生動能，然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、環氧樹脂溢出或是微顆粒污染物，同時進行表面能活化。
 

　　3、物理化學清洗：表面作用中物理反應與化學反應均起重要作用。